化学品在半导体制程中扮演着重要角色，其等级好坏已经明确显示会影响后端产品的良率。 SEMI C1 “GUIDE FOE THE ANALYSIS OF LIQUID CHEMICALS”也明确规范了这些化学品的规格及验证标准，包括纯度、颜色、PH值及金属浓度等多项。
化学品在半导体制程中，经常被使用在蚀刻站及清洗站，而化学品中的金属不纯物在这些站点会扩散至晶圆内部或残留在晶片表面，受金属污染的晶圆到IC元件时会造成p-n 结构中的漏电流，进而导致氧化物的崩溃电压降低，有害于IC元件。
因此我们十分建议制造商展开对化学品本身的不纯物浓度监控，以维持制造过程之产品稳定性，监控时机包含以下流程：
• 新原物料的评估；
• 进料检验；
• 中央厂务供应（水，化学品）系统监控。
用鱼骨图针对化学品使用最多的清洗站，展开污染源的分析的话可以更清楚：
以下有两个实例分享：
• 案例1:
2022年某半导体厂由厂务的中央供酸系统提供全厂用酸，某次供酸PUMP故障而进行更换作业，至此之后，某日终端产品监控出现了金属污染，制程端为了厘清问题所在，花费数日及无数的实验反覆进行确认，最终问题源头导向了供酸PUMP有问题。
• 案例2:
2019年某积体电路大厂发生晶圆有重大瑕疵，报废10万片晶圆，季营收短少约5.5亿美金，经过事后调查发现为某供应商提供的化学品制程有变更，造成积体电路大厂制造之晶圆产生严重的良率问题。
事前预防胜于事后补救
身处科技先端的各位更需时时刻刻将品质优先刻化心中
上潍科技的团队成员在半导体深耕多年，除了极具经验以外，我们也深知化学品在半导体业生产过程中可能带来的影响，因此上潍科技不仅可以提供客户化学品原物料的检测服务，亦能提供适切的监控方案给客户，因为半导体制程监控正是我们的强项。
上潍科技针对化学品的检验程序简单介绍如下：
试剂准备：
• 阻值>18.2 MΩ-cm之超纯水
• 不纯物浓度<10ppt的超纯等级化学品
作业流程如下：
化学品是半导体相当重要的一环，直接影响到产品的好坏，尤其越先进的制程；半导体产业要求的等级越高，代表影响程度也越高。一旦发生化学品异常问题，受冲击的客户通常不会只有一家，扩及的损失恐难以预估，更遑论公司名誉伤害及失去客户信任的可能性。
从原物料检验到厂务端的供水系统，再到设备端清洗耗材，上潍科技都可以针对要点提供监控方案及服务，进行一条龙服务，降低客户的困扰，进而提升产品品质。
上潍科技可提供客户超过40个以上的元素检测结果，帮助客户获得更完整的资讯；若您有原物料的金属元素检验分析的需求，欢迎洽询！
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