化學品在半導體製程中扮演著重要角色，其等級好壞已經明確顯示會影響後端產品的良率。SEMI C1 “GUIDE FOE THE ANALYSIS OF LIQUID CHEMICALS”也明確規範了這些化學品的規格及驗證標準，包括純度、顏色、PH值及金屬濃度等多項。
化學品在半導體製程中，經常被使用在蝕刻站及清洗站，而化學品中的金屬不純物在這些站點會擴散至晶圓內部或殘留在晶片表面，受金屬汙染的晶圓到IC元件時會造成 p-n 結構中的漏電流，進而導致氧化物的崩潰電壓降低，有害於IC元件。
因此我們十分建議製造商展開對化學品本身的不純物濃度監控，以維持製造過程之產品穩定性，監控時機包含以下流程：
• 新原物料的評估；
• 進料檢驗；
• 中央廠務供應（水，化學品）系統監控。
用魚骨圖針對化學品使用最多的清洗站，展開污染源的分析的話可以更清楚：
以下有兩個實例分享：
• 案例1:
2022年某半導體廠由廠務的中央供酸系統提供全廠用酸，某次供酸PUMP故障而進行更換作業，至此之後，某日終端產品監控出現了金屬汙染，製程端為了釐清問題所在，花費數日及無數的實驗反覆進行確認，最終問題源頭導向了供酸PUMP有問題。
• 案例2:
2019年某積體電路大廠發生晶圓有重大瑕疵，報廢10萬片晶圓，季營收短少約5.5億美金，經過事後調查發現為某供應商提供的化學品製程有變更，造成積體電路大廠製造之晶圓產生嚴重的良率問題。
事前預防勝於事後補救
身處科技先端的各位更需時時刻刻將品質優先刻化心中
上濰科技的團隊成員在半導體深耕多年，除了極具經驗以外，我們也深知化學品在半導體業生產過程中可能帶來的影響，因此上濰科技不僅可以提供客戶化學品原物料的檢測服務，亦能提供適切的監控方案給客戶，因為半導體製程監控正是我們的強項。
上濰科技針對化學品的檢驗程序簡單介紹如下：
試劑準備：
• 阻值>18.2 MΩ-cm之超純水
• 不純物濃度<10ppt的超純等級化學品
作業流程如下：
化學品是半導體相當重要的一環，直接影響到產品的好壞，尤其越先進的製程；半導體產業要求的等級越高，代表影響程度也越高。一旦發生化學品異常問題，受衝擊的客戶通常不會只有一家，擴及的損失恐難以預估，更遑論公司名譽傷害及失去客戶信任的可能性。
從原物料檢驗到廠務端的供水系統，再到設備端清洗耗材，上濰科技都可以針對要點提供監控方案及服務，進行一條龍服務，降低客戶的困擾，進而提升產品品質。
上濰科技可提供客戶超過40個以上的元素檢測結果，幫助客戶獲得更完整的資訊；若您有原物料的金屬元素檢驗分析的需求，歡迎洽詢！
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